松山湖材料实验室铟蒸发台设备采购项目

标的名称:铟蒸发台 标的数量:1 主要功能或目标:该设备主要用于微纳加工工艺中8英寸及以下晶片In柱蒸发制备工艺 需满足的要求:"主要技术指标和要求： 1）样品尺寸：8寸向下兼容，可进行碎片工艺； 2）蒸发入射角＜7°； 3）工件台可控低温不高于-20℃，控温精度优于±3℃； 4）片内均匀性：≤±5%（8寸）； 5）工艺重复性：≤±3%；"