当前位置：品牌：
SENTECH
型号：
SI 500、SI 500C等
功能：
刻蚀后形成光滑侧壁，在光学应用中非常重要
用途范围：
可在-100℃左右低温下实现深硅刻蚀
产品规格：低温刻蚀、平板三螺旋天线PTSA、高选择比
公司所在地：重庆
产品库存：现货及定制
可供货地区：全国
刻蚀机可在-100°C左右的低温下实现深硅刻蚀。采用连续的SF6/O2刻蚀工艺，在侧壁上生成低温自钝化层。该工艺刻蚀后形成光滑的侧壁，在光学应用上非常重要。同时刻蚀工艺的高刻蚀速率可实现刻样传片。
展开刻蚀机可在-100°C左右的低温下实现深硅刻蚀。采用连续的SF6/O2刻蚀工艺，在侧壁上生成低温自钝化层。该工艺刻蚀后形成光滑的侧壁，在光学应用上非常重要。同时刻蚀工艺的高刻蚀速率可实现刻样传片。收起
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