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感应耦合等离子化学气相沉积

免费样品检验 48小时发货 工厂直销
¥300万-1000万

产品规格:沉积工艺、特定温度范围内制备高质量薄膜

公司所在地:重庆

产品库存:现货及定制

可供货地区:全国

其他说明:

SI 500D在基于硅烷的沉积工艺中具有出色性能,可在80℃-350℃温度下采用ICPECVD方式制备高质量的SiO2、SiOxNY等膜。采用先进的设备配置。

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SI 500D在基于硅烷的沉积工艺中具有出色性能,可在80℃-350℃温度下采用ICPECVD方式制备高质量的SiO2、SiOxNY等膜。采用先进的设备配置。收起

品牌:
SENTECH
型号:
SI 500D
功能:
沉积工艺、制备高质量薄膜
用途范围:
适用于器件的生产和研发应用
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