品牌:
SENTECH
型号:
SI 500D
功能:
沉积工艺、制备高质量薄膜
用途范围:
适用于器件的生产和研发应用
产品规格:沉积工艺、特定温度范围内制备高质量薄膜
公司所在地:重庆
产品库存:现货及定制
可供货地区:全国
SI 500D在基于硅烷的沉积工艺中具有出色性能,可在80℃-350℃温度下采用ICPECVD方式制备高质量的SiO2、SiOxNY等膜。采用先进的设备配置。
展开SI 500D在基于硅烷的沉积工艺中具有出色性能,可在80℃-350℃温度下采用ICPECVD方式制备高质量的SiO2、SiOxNY等膜。采用先进的设备配置。收起