品牌:
SENTECH
功能:
沉积超薄、无针孔及颗粒的膜层
用途范围:
纳米科技、微系统应用、器件钝化等
产品规格:沉积超薄、无针孔和颗粒的膜层
公司所在地:重庆
产品库存:现货及定制
可供货地区:全国
原子层沉积(ALD)原理是通过在工艺循环周期内分步向真空腔内添加前驱体、实现对膜层厚度的精确控制,此区别于普通 CVD 或PECVD原理。
展开原子层沉积(ALD)原理是通过在工艺循环周期内分步向真空腔内添加前驱体、实现对膜层厚度的精确控制,此区别于普通 CVD 或PECVD原理。收起