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原子层沉积

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¥300万-1000万

产品规格:沉积超薄、无针孔和颗粒的膜层

公司所在地:重庆

产品库存:现货及定制

可供货地区:全国

其他说明:

原子层沉积(ALD)原理是通过在工艺循环周期内分步向真空腔内添加前驱体、实现对膜层厚度的精确控制,此区别于普通 CVD 或PECVD原理。

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原子层沉积(ALD)原理是通过在工艺循环周期内分步向真空腔内添加前驱体、实现对膜层厚度的精确控制,此区别于普通 CVD 或PECVD原理。收起

品牌:
SENTECH
功能:
沉积超薄、无针孔及颗粒的膜层
用途范围:
纳米科技、微系统应用、器件钝化等
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