当前位置：品牌：
elettrorava
型号：
MS、IBS、IBAD
用途范围：
溅射、沉积材料
产品规格：磁控溅射、离子束溅射、离子束辅助沉积
公司所在地：重庆
产品库存：现货及定制
可供货地区：全国
磁控溅射设备：用于通过溅射靶材材料上的原子或分子在基底表面上形成薄膜 离子束溅射设备：使用离子源将靶材料溅射到基板上的沉积技术 离子束辅助沉积：将材料沉积到基材上，基材受到来自离子束源的离子轰击
展开磁控溅射设备：用于通过溅射靶材材料上的原子或分子在基底表面上形成薄膜 离子束溅射设备：使用离子源将靶材料溅射到基板上的沉积技术 离子束辅助沉积：将材料沉积到基材上，基材受到来自离子束源的离子轰击收起
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