光源-掩模协同优化专用仿真平台

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采购标的名称：光源-掩模协同优化专用仿真平台 采购标的需实现的主要功能：该平台用于支持尖端光刻工艺开发, 面向半导体制造商光刻技术研发，它既可以方便地用于开发新光刻工艺，也能在设计，掩膜板和成像等各层面深度优化现有工艺。用于搭建仿真光刻工艺和分辨率增强技术的光刻软件仿真平台，可用先进快速的模型来精确反震出版图设计通过光刻供以后在晶圆上产生的实际信息，来支撑更小节点的计算光刻仿真研究。 采购标的数量：1套 采购标的需满足的质量：平台能对OPC修正后的版图进行仿真验证，质量要求满足现有使用标准。 还应包含以下调试培训服务： 1平台的安装和调试 安装版本为公司能提供的平台版本的最新稳定版本，或在告知并得到同意的情况下，合作的开发版本 2培训平台成功启动后，提供示例项目，演示平台功能，并开展软件使用的培训。