先进光刻工艺仿真平台

A****-应用软件

采购标的名称：先进光刻仿真平台 采购标的需要实现的主要功能：光刻中的光学临近效应修正（OPC）和光源掩模联合优化（SMO）工作，可以完成DUV光刻中基于传统方法以及反演光刻（ILT）的OPC和SMO，还能够从基础物理原理与化学原理出发，精确的模拟光刻过程，包括光刻机曝光过程中的光学行为，光刻胶中发生的光学，光化学反应，化学反应的行为。OPC工作通过优化掩模图形，使得光刻生产中最终的光刻胶形貌得到优化，提高光刻质量，SMO功能则能够同时优化光刻中的掩模和光源，进而提高光刻质量。 采购标的数量：一套（仿真软件平台） 采购标的需要满足的质量等要求：既可以完成DUV光刻中传统方法以及反演光刻（ILT）的OPC和SMO，还能够进行基础物理原理与化学原理的严格仿真（具体包含以下模块：1，DUV集成开发仿真环境；2，光源掩模协同优化（DUV SMO）模块;3,光学临近效应修正（DUV OPC）模块;4,ILT反演光刻模块；5 DUV 光刻严格仿真软件） 还应包含以下调试培训服务： 1平台的安装和调试 安装版本为公司能提供的平台版本的最新稳定版本 2培训 平台成功启动后， 提供示例项目，演示平台功能，并开展软件使用的培训。 3端和现场的技术讨论: 4 测试案例所用示例图形设计