磁控溅射系统采购项目

一、项目信息

采购项目名称： 磁控溅射系统采购项目

采购预算金额： 135万元

预计采购时间： 2024年12月

二、采购需求概况

采购内容： 磁控溅射系统

主要功能/目标： 1. 用于制备：Au、Ag、 Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si、Cu、Fe、Ni、氧化铝、氧化钛、氧化锆、ITO、AZO、氮化钽、氮化钛等。2. 多靶材倾 斜共溅射的方式，可沉积混合物/化合物薄膜。3. 在溅射过程 中加入氧、氮或其它活性气体,可沉积形成靶材物质与气体分子的化合物薄膜。4. 设备简单易于控制、镀膜面积大、薄膜附着力强，尤其适合高熔点和低蒸汽压的材料。5.磁控溅射技术是工业镀膜的主要技术之一，易于科研成果转化，是新技术向工业领域推广的最经济有效的方法之一。 应用范围：磁控溅射系统能完成功能薄膜材料的制备，使原来单一的薄膜材料制备扩展到可以制备复合膜和多层膜，同时，可以选择性的制备金属薄膜和氧化物薄膜。以其专业的薄膜制备功能，及针对性强的特点，对我们进行功能材料研究具有绝对重要的作用。对于我们该设备的购置意义重大，势在必行。购买该设备无疑对我院的教学和科研具有重要的促进作用，为我校进一步稳定和引进高层次人才搭建先进的科研平台，创造良好的科研条件。这也为我院实验室的建设起到了积极的推动作用

需满足要求： 所提供产品满足采购清单要求，不得缺项；所提供产品技术参数及配置满足本项目相关需求

三、公示期限

现将该项目采购意向的有关情况向社会予以公示。公示期 **** 至 **** ，如有意向，请在公示期内点击下方按钮进行意向登记。

联系电话：点击登录查看 ****

本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。

西安建筑科技大学

招标与采购办公室

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