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2025年01月07日
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| 离轴射频偏置磁控溅射 | |
| 项目所在采购意向： | 点击登录查看2025年1至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | 点击登录查看 |
| 采购项目名称： | 离轴射频偏置磁控溅射 |
| 预算金额： | 500.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | A****其他电工、电子生产设备 |
| 采购需求概况 ： | 采购一台离轴射频偏置磁控溅射，用于200 nm及以下尺寸样品的金属、氧化物、氮化物薄膜材料的单层或多层沉积生长。溅射腔本底真空优于5E-7 Pa；磁控溅射源共6个，包含2个离轴溅射源和4个共焦溅射源；样品尺寸兼容2~4英寸。 |
| 预计采购时间： | 2025-02 |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
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