| 项目名称 | 高真空磁控溅射镀膜设备 | 项目编号 | **** |
| 公告开始日期 | **** 11:04:22 | 公告截止日期 | **** 13:00:00 |
| 采购单位 | 点击登录查看 | 付款方式 | 货到付款，甲方在到货验收后15日内向乙方一次性支付本项目的总额 |
| 联系人 | | 联系电话 | |
| 签约时间要求 | | 到货时间要求 | 成交后120个工作日内 |
| 预算总价 | ￥495000.00 |
| 发票要求 | |
| 含税要求 | |
| 送货要求 | |
| 安装要求 | |
| 收货地址 | 玉泉校区第十教学楼二楼 |
| 供应商资质要求 | 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
| 公告说明 | |
| 采购商品 | 采购数量 | 计量单位 | 所属分类 |
| 高真空磁控溅射镀膜设备 | 1 | 台 | 真空应用设备 |
| 品牌 | |
| 型号 | |
| 预算单价 | ￥ 495000.00 |
| 技术参数及配置要求 | 1、溅射真空室腔体:1套 1)外形：优质304不锈钢D形真空室腔体1套，内部尺寸D450×450mm，后门采用铰链式刀口法兰，方便清洗真空腔体，真空室内部调试，维修以及取放物品，配视窗1套，前门采用横拉方门，配视窗1套； 2)底部：2英寸磁控靶（美国科特莱思科）接口3套,清洗接口1套，照明接口2套，预留分子泵接口1套，； 3)顶部：样品台接口1套，气动挡板接口1套； 4)侧壁：预留法兰若干； 5)腔体漏率：整体漏率优于5×10-10Pa.m^3/S，保压12小时，压强小于10Pa。 2、磁控溅射系统：1套 1)磁控靶：2英寸普磁靶（美国科特莱思科）3套，靶材2英寸，靶头可摆动调节溅射角度，靶头内部水冷； 2)清洗：基片清洗1套，可摆动调节； 3)靶挡板：各溅射靶配独立挡板，以保证镀膜的工艺性（预溅射、单层膜、多层膜、掺杂膜等镀膜防止交叉污染和干扰等）； 4)射频电源1台：500W，自动匹配； 5)直流电源3台：500W。 3、样品台系统：1套 1)基片旋转：采用磁流体密封，保证密封可靠性，转速0～20转／分，通过触摸屏控制连续可调； 2)基片升降：衬底与靶材间距80-150mm，电动升降，通过触摸屏控制连续可调； 3)基片挂架：采用水冷台，接入冷水机冷水，承载15*15mm基片16片； 4)基片挡板：采用磁流体密封，在基片旋转的任意角度均可挡住或打开，通过软件控制，旋转开关，速度平稳。 4、配气系统：1套（2路工艺气体流量控制，如Ar，N2等） 1)质量流量控制器2套； 2)高真空气动挡板阀1台； 3)φ6电磁截止阀2套； 4)φ6不锈钢管路1套。 5、设备机架：1套 1)40碳钢方管焊接机架1套，表面喷塑； 2)3英寸万向轮4件，移动调整； 3)地脚4件，锁紧定位。 6、电控系统：1套（电气控制采用设备机架和电控柜内置） 1)烘烤照明电源：1台； 2)总控制电源（配10英寸触摸屏，控制器，控制样品台，磁控靶挡板，泵阀开关、相序检测，以及电缆开关接头等）：1台； 7、其他技术参数： 1)缺相保护、误操作保护，联动互锁以及一键真空启停等功能； 2)供电：～220V单相供电系统（峰值4KW）； 3)供水：循环制冷水机，冷却水温度20℃～35℃，工作环境温度：10℃～40℃； 4)供气：小型无油静音气泵，提供0.2-0.3MPa气压，驱动气动阀门； 5)真空室极限真空：优于8×10^-7Pa，大气至6×10^-4Pa时间优于40分钟（充干燥氮气）。 |
| 参考链接 | |
| 售后服务 | 服务网点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:3年;服务时限:报修后8小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品;在设备交付两年内免费提供一次搬迁服务。服务内容包括设备分拆，设备指导包装，运输；设备在新场地的组装和调试。; |
信息来源：http://www.yuncaitong.cn/publish/****/20M9HXFOF7LNKYLG.shtml
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2025年04月15日
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