技术规格及参数 | 1.1电压范围:220VAC±20%,3线,带地线(PE); 1.2频率范围:47Hz~53Hz; 1.3输入电流:5.3A; 1.4浪涌电流:冷启动40A; 1.5功率因数:PF≥0.95(最大功率输出时); 1.6效率:≥70%(输出功率大于100W,并且负载为标准50欧时); 1.7输出频率:13.56MHz±50ppm; 1.8功率:最小功率5W,最大功率600W,连续可调; 1.9最大反射功率:100W,如果反射功率大于100W,射频电源会降低输出,保持发射不大于100W; 配套附件: 1、真空腔室:尺寸φ500×H420mm,材质SUS304优质不锈钢,圆柱形、前开门结构。(1件) 2、基片台:尺寸φ150mm,可0~20转/分钟旋转,可加热至500℃,可调可控,基片台带有绝缘设计,可加负偏压,带气动挡板。(1件) 3、溅射靶:3套3英寸永磁靶,靶角度、靶基距免拆卸手动可调,带独立气动挡板。 4、真空系统:采用复合分子泵(1200L/S)+直联高速旋片式真空泵(9L/S)+高真空阀门+数显复合真空计。(1件) 5、气路:Ar,100sccm;N2,50sccm;O2,20sccm。(1件) 6、水路气体:配制冷量5.17KW冷水机(1件);配最大排气量115L/min空压机(1件)。 7、自动恒压系统,薄膜规+电机驱动控制阀+控制软件闭环自动控制;保持镀膜时工艺压力稳定。(1件) 8、电气控制:PLC+触摸屏半自动控制系统。(1件) 9、机架:机架和控制柜一体化设计,碳钢制作,表面喷塑处理,配脚轮。(1件) 10、靶材:铂99.99%,φ76.2×2mm,1块;铜,φ76.2×3mm,1块;镍99.995%,φ76.2×2mm,1块;铬99.95% ,φ76.2×5mm,1块;镍铬合金(镍90:铬10),φ76.2*5mm,1块。 |